技術紹介【メンテナンス】

デンスローディング－触媒高密度充填技術

製造設備における反応塔内の触媒を安全かつ安価、また短期間にて抜出、再充填実施可能です。

特長	35年以上無事故の実績を誇る独自開発・改良装備を使用したイナートエントリー技術イナートガス雰囲気下で触媒スキミング及び抜出を短期間にて実施可能
効果	触媒の高密度充填かつ均一な充填
主な用途	酸欠環境下での触媒スキミング及び抜出作業触媒の高密度かつ均一充填
仕様	CEC式キャットフィーダー φ445×960mm、70kg 適用可能反応塔径1～5m 充填面の最大高低差±200mm（リアクター内径4mの場合）低い触媒の粉化率0.2%程度（マシン実験時の数値であり触媒の強度により異なる）充填速度8～22m3/hr（リアクター径１～4.5m）充填密度10～16％増（対ソック充填）（※リアクター径・高さ、触媒種類・形状等により異なる）